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Universidade Estadual de Campinas

1. Garc?a P?rez, Tsai. Estudo da Influ?ncia do plasma de baixa press?o no comportamento mec?nico das uni?es adesivas metal-borracha .

Degree: 2010, Universidade Estadual de Campinas

Resumo: O presente trabalho enfoca processos de modifica??o de superf?cies de alum?nio e borrachas (neoprene e borracha but?lica) para promover ades?o entre estes dois materiais, e o estudo das uni?es obtidas. Os procedimento iniciou-se com o tratamento das borrachas e com o processo de limpeza da superf?cie do metal, mediante o emprego de plasma de baixa press?o, utilizando arg?nio, oxig?nio e misturas destes reagentes. Posteriormente, utilizou se hexametildisiloxano para o tratamento superficial do metal. Depois, as pe?as de alum?nio foram unidas com os elast?meros mediante o uso de um adesivo de cianoacrilato. Na avalia??o dos procedimentos de limpeza e ativa??o da superf?cie do metal e das borrachas, foi estudada a influ?ncia dos diferentes par?metros de opera??o sobre as caracter?sticas superficiais dos materiais tratados. As caracter?sticas das superf?cies tratadas foram avaliadas por interm?dio de an?lise goniom?trica, espectroscopia no infravermelho com Transformada de Fourier e microscopia eletr?nica de varredura. A avalia??o da ades?o metal-borracha foi empreendida por meio de processos padronizados, como o peel test. O processo de limpeza por plasma de baixa press?o permitiu obter, para o alum?nio, uma energia livre de superf?cie de 66,57 mN/m, o que equivale a um aumento de 99,6 %, se comparada com a mesma propriedade no material sem tratamento. O tratamento das borrachas com plasma aumentou o grau de molhabilidade da superf?cie, permitindo aumentar a for?a de ades?o das uni?es adesivas at? 40% no caso do neoprene e at? 25% no caso da borracha but?lica. A presen?a de hexametildisiloxano no plasma contribuiu para o aumento da resist?ncia mec?nica das juntas adesivas estudadas. O processo desenvolvido possibilitou obter juntas adesivas com uma resist?ncia de 22,4 kN/m, o que representou uma melhora de 75%, em compara??o com a resist?ncia de juntas produzidas com iguais materiais, mas sem aplica??o do processo desenvolvido; Abstract: This work involves surface modification of Aluminum and rubber surfaces (neoprene and butyl rubber) to promote bonding processes between these materials, as well as the study of the bonded joints. The process started with the rubber treatment and with a process to clean the aluminum surfaces by means of low pressure plasma. Argon, Oxygen or Argon/Oxygen mixtures were used as reagents. A surface treatment on the metal using Hexamethyldisiloxane was performed after that step. Next, the aluminum parts were bonded with the rubbers by means of cyanoacrylate glue. The influence of different plasma operating parameters on the surface's characteristics of the materials was studied during the evaluation of the cleaning, deposition, and activation steps. The characteristics of the surfaces were studied by means of goniometric analysis, FTIR, and SEM. The evaluation of the metal-rubber adhesion was performed by means of peel test. The results revealed that the cleaning process using low pressure plasma gives a surface energy on the aluminum of 66,57mN/m, corresponding to an increase of… Advisors/Committee Members: Bittencourt, Edison, 1941- (advisor), Massi, Marcos (committee member), Munhoz, Segundo Nilo Mestanza (committee member), Ravagnani, Sergio Persio (committee member), Peres, Leila (committee member).

Subjects/Keywords: Ades?o; Plasma (Gases ionizados); Superf?cie; Pol?meros; Alum?nio

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APA (6th Edition):

Garc?a P?rez, T. (2010). Estudo da Influ?ncia do plasma de baixa press?o no comportamento mec?nico das uni?es adesivas metal-borracha . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/266985

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Garc?a P?rez, Tsai. “Estudo da Influ?ncia do plasma de baixa press?o no comportamento mec?nico das uni?es adesivas metal-borracha .” 2010. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed August 09, 2020. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/266985.

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MLA Handbook (7th Edition):

Garc?a P?rez, Tsai. “Estudo da Influ?ncia do plasma de baixa press?o no comportamento mec?nico das uni?es adesivas metal-borracha .” 2010. Web. 09 Aug 2020.

Vancouver:

Garc?a P?rez T. Estudo da Influ?ncia do plasma de baixa press?o no comportamento mec?nico das uni?es adesivas metal-borracha . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2010. [cited 2020 Aug 09]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/266985.

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Council of Science Editors:

Garc?a P?rez T. Estudo da Influ?ncia do plasma de baixa press?o no comportamento mec?nico das uni?es adesivas metal-borracha . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2010. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/266985

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Universidade Estadual de Campinas

2. Damos, Flavio Santos. Aplica??o da ressonancia de plasmon de superficie e da microbalan?a de cristal de quartzo na investiga??o de processos interfaciais visando o desenvolvimento de sensores .

Degree: 2006, Universidade Estadual de Campinas

Resumo: O presente trabalho descreve as aplica??es da resson?ncia de pl?smon de superf?cie (surface plasmon resonance-SPR) e da microbalan?a de cristal de quartzo (quartz crystal microbalance-QCM) na investiga??o de processos interfaciais, visando o melhor entendimento e aplica??o dos sistemas investigados bem como o estabelecimento das aplica??es da t?cnica SPR aliada ? eletroqu?mica. Neste sentido s?o apresentadas investiga??es do comportamento ?ptico-eletroqu?mico da mol?cula de azul de metileno (sistema 1), pol?meros condutores (sistema 2) e monocamadas auto-organizadas (sistema 3). A escolha de tais sistemas, embora distintos, tem a finalidade de explora??o ampla da t?cnica SPR na investiga??o de processos superficiais e interfaciais. O uso da t?cnica SPR na investiga??o do sistema 1 mostra a sua aplicabilidade no monitoramento do intumescimento de filmes em dimens?es nanom?tricas e a investiga??o de processos adsortivos e difusionais com elevada sensibilidade. Assim sendo, a t?cnica SPR foi aplicada na investiga??o de processos de forma??o de filmes finos de pol?meros condutores, bem como os processos de dopagem destes filmes. Neste sentido, foi investigada a eletropolimeriza??o do pirrol e da polianilina bem como o efeito de dopantes ani?nicos sobre as propriedades ?pticas e eletroqu?micas destes materiais. As medidas ?pticas obtidas foram correlacionadas aos processos de dopagem e desdopagem dos filmes confeccionados mediante um estudo comparativo destes processos por QCM tendo em vista a consolida??o da mesma na investiga??o de tais processos. Por fim, com o prop?sito de explorar a sensibilidade da t?cnica SPR a sistemas de dimens?es sub-nanom?tricas, foram investigadas monocamadas auto-organizadas de ?cido 11-mercapto-undecan?ico e mono(6-deoxi-6-mercapto)-b-ciclodextrina. Neste sentido, foram determinadas a espessura e a constante diel?trica destes filmes, assim como a cin?tica de adsor??o destes empregando um modelo de adsor??o fundamentado na adsor??o, desor??o e re-arranjo molecular; Abstract: The present work describes the applications of surface plasmon resonance (SPR) and quartz crystal microbalance (QCM) in the investigation of interface processes in the attempt to improve the understanding and application of the investigated systems as well as the establishment of the applications of the SPR allied with electrochemical techniques. In this sense, are presented the investigation of the electrochemical behavior of the methylene blue molecule (system 1), conducting polymers (system 2) and self-assembled monolayers (system 3). The selection of these systems, although distinct, has a focus on the exploration of the SPR technique in the investigation of surface and interface processes. The use of SPR technique in the investigation of the system 1 shows its applicability in the monitoring of swelling of films in nanometric size as well as the investigation of adsorptive and diffusional processes with high sensitivity. Thus, SPR was applied in the investigation of construction of thin conducting polymer… Advisors/Committee Members: Kubota, Lauro Tatsuo, 1964- (advisor), Nart, Francisco Carlos (committee member), Torresi, Roberto Manuel (committee member), Longo, Cl?udia (committee member), Loh, Watson (committee member).

Subjects/Keywords: Resson?ncia de plasmon de superf?cie; Microbalan?a de cristal de quartzo; Detectores

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APA (6th Edition):

Damos, F. S. (2006). Aplica??o da ressonancia de plasmon de superficie e da microbalan?a de cristal de quartzo na investiga??o de processos interfaciais visando o desenvolvimento de sensores . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/248396

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Damos, Flavio Santos. “Aplica??o da ressonancia de plasmon de superficie e da microbalan?a de cristal de quartzo na investiga??o de processos interfaciais visando o desenvolvimento de sensores .” 2006. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed August 09, 2020. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/248396.

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MLA Handbook (7th Edition):

Damos, Flavio Santos. “Aplica??o da ressonancia de plasmon de superficie e da microbalan?a de cristal de quartzo na investiga??o de processos interfaciais visando o desenvolvimento de sensores .” 2006. Web. 09 Aug 2020.

Vancouver:

Damos FS. Aplica??o da ressonancia de plasmon de superficie e da microbalan?a de cristal de quartzo na investiga??o de processos interfaciais visando o desenvolvimento de sensores . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2006. [cited 2020 Aug 09]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/248396.

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Council of Science Editors:

Damos FS. Aplica??o da ressonancia de plasmon de superficie e da microbalan?a de cristal de quartzo na investiga??o de processos interfaciais visando o desenvolvimento de sensores . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2006. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/248396

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