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You searched for +publisher:"Universidade Estadual de Campinas" +contributor:("Lepienski, Carlos Mauricio"). Showing records 1 – 3 of 3 total matches.

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Universidade Estadual de Campinas

1. Cucatti, Silvia Azevedo dos Santos, 1989-. Influ?ncia do bombardeamento i?nico com gases nobres nas tens?es residuais em semicondutores covalentes (sil?cio) e ligas met?licas (a?o) .

Degree: 2018, Universidade Estadual de Campinas

Resumo: A presente tese aborda o estudo das tens?es residuais induzidas em materiais sujeitos ao processo de bombardeamento i?nico com gases nobres. Em condi??es adequadas, este tratamento em s?lidos resulta em auto-organiza??o dos ?tomos da superf?cie e modifica??es estruturais como aumento de defeitos cristalinos e tens?es residuais. Tais modifica??es podem ser aplicadas para obten??o de sistemas auto-organizados de part?culas met?licas depositadas nos substratos previamente submetidos ao tratamento com ?ons. Al?m disso, o bombardeamento tamb?m pode ser combinado com nitreta??o, processo que consiste na incorpora??o de nitrog?nio na superf?cie e subsequente difus?o em volume, resultando em maior efici?ncia da difus?o de nitrog?nio e melhoria nas propriedades mec?nicas finais dos materiais tratados. Para o entendimento desses sistemas e controle dos resultados, a caracteriza??o de tens?es nos substratos bombardeados se mostrou essencial. Sendo assim, o prop?sito desta tese foi realizar um estudo sistem?tico do efeito do bombardeamento com ?ons de gases nobres sobre o estado de tens?es residuais em a?o AISI 316L e Si(001), materiais selecionados por sua import?ncia na ind?stria de transforma??o e na microeletr?nica, respetivamente. O ?on escolhido para o estudo foi o Xe devido a sua grande massa relativa, tornando as mudan?as estruturais resultantes do processo mais evidentes. Estudamos tamb?m as tens?es em revestimentos de TiN crescidos via deposi??o por feixe de ?ons sobre substratos de Si(001) nanoestruturados atrav?s de bombardeamento, investiga??o de grande import?ncia pelo uso desse filme como barreira de difus?o em sistemas de part?culas met?licas depositadas sobre esse material. No caso do Si(001), como bem estabelecido, o bombardeamento com ?ons de Xe gera uma superf?cie ondulada e peri?dica. Nos estudos com AISI 316L verificamos a forma??o de padr?es dependentes da orienta??o cristalina do substrato. Tais comportamentos podem ser satisfatoriamente descritos por modelos invocando mecanismos como a depend?ncia do sputter yield com a curvatura da superf?cie, difus?o at?mica na superf?cie do material, composi??o do substrato, energia e densidade de corrente dos ?ons, dentre outros. Estudos da microestrutura de Si(001) bombardeado foram realizados utilizando radia??o sincrotron (LNLS, Campinas ? SP), radia??o esta necess?ria para obten??o de difratogramas com boa resolu??o e rela??o sinal-ru?do na investiga??o de poucas camadas at?micas do material modificado. Especificamente, realizamos mapeamento do espa?o rec?proco de planos cristalinos perpendiculares ? superf?cie e observamos que o tratamento com ?ons induz uma interface amorfo-cristalina ondulada com periodicidade caracterizada por um "comprimento de onda" dependente das condi??es experimentais. Ambos Si(001) e AISI 316L bombardeados apresentam tens?es residuais compressivas com caracter?sticas que podem ser explicados pelo efeito knock-on, efeito esse que considera as m?ltiplas colis?es dos ?ons incidentes com os ?tomos do substrato. A diferen?a de… Advisors/Committee Members: Alvarez, Fernando, 1946- (advisor), Cardoso, Lisandro Pavie (committee member), Rodrigues, Varlei (committee member), Lepienski, Carlos Mauricio (committee member), Freire J?nior, Fernando L?zaro (committee member).

Subjects/Keywords: Bombardeio i?nico; Tens?es residuais; A?o inoxid?vel; Sil?cio; Raios X - Difra??o

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APA (6th Edition):

Cucatti, Silvia Azevedo dos Santos, 1. (2018). Influ?ncia do bombardeamento i?nico com gases nobres nas tens?es residuais em semicondutores covalentes (sil?cio) e ligas met?licas (a?o) . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/333171

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Cucatti, Silvia Azevedo dos Santos, 1989-. “Influ?ncia do bombardeamento i?nico com gases nobres nas tens?es residuais em semicondutores covalentes (sil?cio) e ligas met?licas (a?o) .” 2018. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed October 17, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/333171.

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MLA Handbook (7th Edition):

Cucatti, Silvia Azevedo dos Santos, 1989-. “Influ?ncia do bombardeamento i?nico com gases nobres nas tens?es residuais em semicondutores covalentes (sil?cio) e ligas met?licas (a?o) .” 2018. Web. 17 Oct 2019.

Vancouver:

Cucatti, Silvia Azevedo dos Santos 1. Influ?ncia do bombardeamento i?nico com gases nobres nas tens?es residuais em semicondutores covalentes (sil?cio) e ligas met?licas (a?o) . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2018. [cited 2019 Oct 17]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/333171.

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Council of Science Editors:

Cucatti, Silvia Azevedo dos Santos 1. Influ?ncia do bombardeamento i?nico com gases nobres nas tens?es residuais em semicondutores covalentes (sil?cio) e ligas met?licas (a?o) . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2018. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/333171

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Universidade Estadual de Campinas

2. Rangel, Elidiane Cipriano. Implantação iônica em filmes finos depositados por PECVD .

Degree: 1999, Universidade Estadual de Campinas

Resumo: Neste trabalho, investigou-se a influência da implantação iônica sobre as propriedades de filmes finos de polímero depositados a partir de plasmas de radiofrequência (40 MHz, 70 W) de dois compostos orgânicos (acetileno e benzeno) e de suas misturas com gases nobres. As irradiações foram realizadas em um implantador iônico, com íons He+ , N+ e Ar+ , à fluências entre 1018 e 1021 íons/m2 e energias de 50 a 150 keV. As propriedades estruturais e ópticas dos filmes foram analisadas por espectroscopias no infravermelho e no ultravioleta-visível, respectivamente. Através de Ressonância Paramagnética de Elétrons, foi verificado que o bombardeamento iônico produz radicais livres na estrutura polimérica. A concentração destas espécies no filme foi investigada em função da energia e da fluência do feixe iônico. Variações nas concentrações dos elementos químicos presentes nas amostras com o bombardeamento iônico foram investigadas por Espectroscopia de Retro-espalhamento Rutherford. A espessura dos filmes foi medida com um perfilômetro, e associada aos dados obtidos por RBS, permitiu a determinação da densidade dos polímeros. Medidas de dureza dos filmes foram realizadas com a técnica de nanoindentação. Usando o método de duas pontas foi determinada a resistividade elétrica dos filmes e, através da exposição a plasmas de oxigênio, foi avaliada a resistência à oxidação. A interpretação dos resultados foi baseada nos perfis de perda de energia dos íons obtidos com o programa TRIM (TRansport of Ions in Matter); Abstract: This work reports the influence of the ion implantation on the properties of thin plasma polymer films deposited from radiofrequency (40 MHz, 70 W) plasmas of two organic compounds (acetylene and benzene) and from their mixtures with noble gases. The irradiations were performed with an ion implanter, using He+, N+ and Ar+ ions, in the fluence and energy range of 1018 to 1021 ions/m2 and 50 to 150 keV, respectively. Infrared and ultraviolet-visible spectroscopies were employed to characterize the structural and optical properties of the films, respectively. Using Electron Paramagnetic Resonance spectroscopy, the formation of free radicals in the film structure was investigated as a function of the ion beam energy and fluence. Rutherford Backscattering Spectroscopy (RBS) was employed to determine the elemental composition of the samples and its change induced by the irradiation. Thicknesses of the films were measured with a profilemeter. Combination of the RBS and film thickness data allowed the determination of the density of the films. Hardness measurements were performed using the nanoindentation technique and the electrical resistivity of the films was determined by the two-point probe. The resistance to oxidation was determined from the etching rate of the polymers in an oxygen plasma. Interpretation of various experimental results were based on the implanted ion and energy loss simulation profiles, obtained with the TRansport of Ions in Matter ¿ TRIM code Advisors/Committee Members: Moraes, Mário Antônio Bica de, 1939- (advisor), Honda, Roberto Yzumi (committee member), Lepienski, Carlos Mauricio (committee member), Pagan, Cesar Jose Bonjuani (committee member), Machida, Munemasa (committee member).

Subjects/Keywords: Implantação iônica; Polimerização em plasma; Filmes finos

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APA (6th Edition):

Rangel, E. C. (1999). Implantação iônica em filmes finos depositados por PECVD . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278415

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Rangel, Elidiane Cipriano. “Implantação iônica em filmes finos depositados por PECVD .” 1999. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed October 17, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278415.

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MLA Handbook (7th Edition):

Rangel, Elidiane Cipriano. “Implantação iônica em filmes finos depositados por PECVD .” 1999. Web. 17 Oct 2019.

Vancouver:

Rangel EC. Implantação iônica em filmes finos depositados por PECVD . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1999. [cited 2019 Oct 17]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278415.

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Council of Science Editors:

Rangel EC. Implantação iônica em filmes finos depositados por PECVD . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1999. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278415

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Universidade Estadual de Campinas

3. Louren?o, Airton. Filmes finos de oxidos de vanadio como catodos de microbaterias recarregadas DE Litio .

Degree: 1998, Universidade Estadual de Campinas

Resumo: Baterias de l?tio na forma de filmes finos (microbaterias) vem sendo pesquisadas ja h? alguns anos. Este trabalho teve como principal objetivo estudar e otimizar as propriedades de um novo material de catodo. Desta forma, filmes finos de ?xido de van?dio foram preparados por sputtering reativo em diferentes condi??es de deposi??o, com vistas ? sua utiliza??o como catodos de microbaterias recarreg?veis de l?tio. A influ?ncia das condi??es de prepara??o na performance eletroqu?mica do material cat?dico foi discutida principalmente em termos das suas propriedades mec?nicas, microestrutura e composi??o. Essas propriedades foram determinadas por nanoindenta??o, difra??o de raios-X e Retroespalhamento de Rutherford. As amostras foram caracterizadas eletroquimicamente conjuntamente com a determina??o da varia??o da tens?o mec?nica imposta ao conjunto filme-substrato devido ao processo de intercala??o i?nica. Os materiais foram otimizados quanto ? capacidade de carga, reversibilidade, e propriedades mec?nicas. Amostras com par?metros de crescimento otimizados foram utilizadas na montagem de microbaterias para testes de ciclabilidade e ensaios de vida ?til. As microbaterias apresentaram boa cin?tica de intercala??o (DLi= 2,89 X 10-13cm2S-l),com capacidade de carga entre 27 e 45uAhcm-2,resultado este acima (50%) do resultado encontrado na literatura para o mesmo design de dispositivo. Quando submetidas a ensaios de vida ?til, mostrou boa performance e estabilidade at? 100 ciclos de carga/descarga; Abstract: In the last few years, intensive research has been dedicated to the development of lithium batteries in thin film form (microbatteries). This work had as main objective to study and to optimize the properties of a new cathode material. Therefore, vanadium oxide thin films prepared by reactive sputtering in different deposition conditions were studied as a potential cathode material for rechargeable lithium microbatteries. The influence of the preparation conditions in the electrochemical performance was discussed mainly in terms of its mechanical properties, microstructure and composition. The nanoindentation technique, X-ray diffraction and Rutherford Backscattering Spectrometry studied those properties. The samples were electrochemically characterized by a galvanostatic technique, simultaneously with the mechanical stress variation induced by the intercalation/deintercalation process. Parameters as charge capacity, reversibility, and mechanical properties were the guidelines to optimize the cathode deposition parameters. Optimized samples were used to assemble microbatteries for cyclability tests and device useful life. The microbatteries presented good intercalation kinetics (DLi= 2.89 X10-13cm2S-l),with charge capacity between 27 and 45uAh cm-2. These results are better (50%) than the ones found in the literature for the same device design. The microbattery showed good performance and stability until 100 charge/discharge cycles Advisors/Committee Members: Arruda, Antonio Celso Fonseca de, 1948- (advisor), Gorenstein, Annette, 1953- (advisor), Caram Junior, Rubens (committee member), Bertazzoli, Rodnei (committee member), Lepienski, Carlos Mauricio (committee member), Moraes, M?rio Ant?nio Bica de (committee member).

Subjects/Keywords: Baterias de litio; Filmes finos

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APA (6th Edition):

Louren?o, A. (1998). Filmes finos de oxidos de vanadio como catodos de microbaterias recarregadas DE Litio . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/263277

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Louren?o, Airton. “Filmes finos de oxidos de vanadio como catodos de microbaterias recarregadas DE Litio .” 1998. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed October 17, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/263277.

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MLA Handbook (7th Edition):

Louren?o, Airton. “Filmes finos de oxidos de vanadio como catodos de microbaterias recarregadas DE Litio .” 1998. Web. 17 Oct 2019.

Vancouver:

Louren?o A. Filmes finos de oxidos de vanadio como catodos de microbaterias recarregadas DE Litio . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1998. [cited 2019 Oct 17]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/263277.

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Council of Science Editors:

Louren?o A. Filmes finos de oxidos de vanadio como catodos de microbaterias recarregadas DE Litio . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1998. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/263277

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