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You searched for +publisher:"Universidade Estadual de Campinas" +contributor:("Braga, Edmundo da Silva"). Showing records 1 – 30 of 34 total matches.

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Universidade Estadual de Campinas

1. Ferrer Peñalver, Pedro Luis, 1987-. Proteção de um transmissor de nível submergível contra transitórios associados às descargas elétricas atmosféricas .

Degree: 2016, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Neste trabalho foi projetado um sistema de proteção contra surtos elétricos para um transmissor de nível hidrostático submergível, que cumpre com os requisitos do… (more)

Subjects/Keywords: Descarga elétrica - Proteção; Transitórios (Eletricidade); Compatibilidade eletromagnética

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APA (6th Edition):

Ferrer Peñalver, Pedro Luis, 1. (2016). Proteção de um transmissor de nível submergível contra transitórios associados às descargas elétricas atmosféricas . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/305440

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Ferrer Peñalver, Pedro Luis, 1987-. “Proteção de um transmissor de nível submergível contra transitórios associados às descargas elétricas atmosféricas .” 2016. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/305440.

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MLA Handbook (7th Edition):

Ferrer Peñalver, Pedro Luis, 1987-. “Proteção de um transmissor de nível submergível contra transitórios associados às descargas elétricas atmosféricas .” 2016. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Ferrer Peñalver, Pedro Luis 1. Proteção de um transmissor de nível submergível contra transitórios associados às descargas elétricas atmosféricas . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2016. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/305440.

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Council of Science Editors:

Ferrer Peñalver, Pedro Luis 1. Proteção de um transmissor de nível submergível contra transitórios associados às descargas elétricas atmosféricas . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2016. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/305440

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Universidade Estadual de Campinas

2. Sant'Anna, Guilherme Mauad, 1988-. Análise do campo elétrico nas proximidades de uma junção tripla : metal - vácuo - dielétrico, através de simulações computacionais das equações de Maxwell .

Degree: 2014, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Neste trabalho, foi estudado o comportamento do campo elétrico nas proximidades de uma junção tripla composta de metal, vácuo e dielétrico, utilizando simulações computacionais.… (more)

Subjects/Keywords: Campos elétricos; Método dos elementos finitos

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APA (6th Edition):

Sant'Anna, Guilherme Mauad, 1. (2014). Análise do campo elétrico nas proximidades de uma junção tripla : metal - vácuo - dielétrico, através de simulações computacionais das equações de Maxwell . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259570

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Sant'Anna, Guilherme Mauad, 1988-. “Análise do campo elétrico nas proximidades de uma junção tripla : metal - vácuo - dielétrico, através de simulações computacionais das equações de Maxwell .” 2014. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259570.

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MLA Handbook (7th Edition):

Sant'Anna, Guilherme Mauad, 1988-. “Análise do campo elétrico nas proximidades de uma junção tripla : metal - vácuo - dielétrico, através de simulações computacionais das equações de Maxwell .” 2014. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Sant'Anna, Guilherme Mauad 1. Análise do campo elétrico nas proximidades de uma junção tripla : metal - vácuo - dielétrico, através de simulações computacionais das equações de Maxwell . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2014. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259570.

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Council of Science Editors:

Sant'Anna, Guilherme Mauad 1. Análise do campo elétrico nas proximidades de uma junção tripla : metal - vácuo - dielétrico, através de simulações computacionais das equações de Maxwell . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2014. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259570

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Universidade Estadual de Campinas

3. Danieli, Carlos Luciano De. Otimização e estudo do processo de fabricação de microponteiras de silício .

Degree: 2010, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Este trabalho de mestrado utilizou várias técnicas convencionais de microfabricação desenvolvidas nas indústrias de semicondutores e teve como objetivo fabricar microponteiras de silício com… (more)

Subjects/Keywords: Silício; Elétrons - Emissão; Engenharia elétrica - Materiais; Semicondutores; Microeletrônica

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APA (6th Edition):

Danieli, C. L. D. (2010). Otimização e estudo do processo de fabricação de microponteiras de silício . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259566

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Danieli, Carlos Luciano De. “Otimização e estudo do processo de fabricação de microponteiras de silício .” 2010. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259566.

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MLA Handbook (7th Edition):

Danieli, Carlos Luciano De. “Otimização e estudo do processo de fabricação de microponteiras de silício .” 2010. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Danieli CLD. Otimização e estudo do processo de fabricação de microponteiras de silício . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2010. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259566.

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Council of Science Editors:

Danieli CLD. Otimização e estudo do processo de fabricação de microponteiras de silício . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2010. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259566

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Universidade Estadual de Campinas

4. Baumgratz, Filipe Dias. Estudo da distribuição da temperatura em encapsulamentos de dispositivos MOSFET utilizando simulação por métodos de elementos finitos .

Degree: 2011, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: O transistor MOSFET teve uma evolução muito grande desde sua invenção até os dias de hoje. As dimensões foram reduzidas, a capacidade de integração… (more)

Subjects/Keywords: Encapsulamento; Método dos elementos finitos; Simulação por computador; Calor - Transmissão; Temperatura

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APA (6th Edition):

Baumgratz, F. D. (2011). Estudo da distribuição da temperatura em encapsulamentos de dispositivos MOSFET utilizando simulação por métodos de elementos finitos . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259569

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Baumgratz, Filipe Dias. “Estudo da distribuição da temperatura em encapsulamentos de dispositivos MOSFET utilizando simulação por métodos de elementos finitos .” 2011. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259569.

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MLA Handbook (7th Edition):

Baumgratz, Filipe Dias. “Estudo da distribuição da temperatura em encapsulamentos de dispositivos MOSFET utilizando simulação por métodos de elementos finitos .” 2011. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Baumgratz FD. Estudo da distribuição da temperatura em encapsulamentos de dispositivos MOSFET utilizando simulação por métodos de elementos finitos . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2011. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259569.

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Council of Science Editors:

Baumgratz FD. Estudo da distribuição da temperatura em encapsulamentos de dispositivos MOSFET utilizando simulação por métodos de elementos finitos . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2011. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259569

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Universidade Estadual de Campinas

5. Araujo, Humberto Xavier de. Projeto e implementação de câmara GTEM - giga hertz transverse electromagnetic para testes de compatibilidade eletromagnética de circuitos e sistemas eletrônicos .

Degree: 2012, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Este trabalho apresenta a análise detalhada, simulações numéricas completas e os procedimentos para o projeto e a implementação de uma câmara GTEM -GigaHertz Transverse… (more)

Subjects/Keywords: Compatibilidade eletromagnética; Metamaterial; Interferência eletromagnética

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APA (6th Edition):

Araujo, H. X. d. (2012). Projeto e implementação de câmara GTEM - giga hertz transverse electromagnetic para testes de compatibilidade eletromagnética de circuitos e sistemas eletrônicos . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260963

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Araujo, Humberto Xavier de. “Projeto e implementação de câmara GTEM - giga hertz transverse electromagnetic para testes de compatibilidade eletromagnética de circuitos e sistemas eletrônicos .” 2012. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260963.

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MLA Handbook (7th Edition):

Araujo, Humberto Xavier de. “Projeto e implementação de câmara GTEM - giga hertz transverse electromagnetic para testes de compatibilidade eletromagnética de circuitos e sistemas eletrônicos .” 2012. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Araujo HXd. Projeto e implementação de câmara GTEM - giga hertz transverse electromagnetic para testes de compatibilidade eletromagnética de circuitos e sistemas eletrônicos . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2012. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260963.

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Council of Science Editors:

Araujo HXd. Projeto e implementação de câmara GTEM - giga hertz transverse electromagnetic para testes de compatibilidade eletromagnética de circuitos e sistemas eletrônicos . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2012. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260963

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Universidade Estadual de Campinas

6. Moreira, Milena de Albuquerque, 1977-. Synthesis of thin piezoelectric ALN films in view of sensors and telecom applications = Síntese de filmes finos de ALN piezoelétrico para aplicações em sensores e dispositivos de alta frequência .

Degree: 2014, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Os requisitos do mercado consumidor de dispositivos de alta frequência têm sido cada vez mais exigentes nas últimas décadas. Assim, é necessária uma melhoria… (more)

Subjects/Keywords: Nitreto de alumínio; Materiais piezoelétricos; Filmes finos

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APA (6th Edition):

Moreira, Milena de Albuquerque, 1. (2014). Synthesis of thin piezoelectric ALN films in view of sensors and telecom applications = Síntese de filmes finos de ALN piezoelétrico para aplicações em sensores e dispositivos de alta frequência . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260817

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Moreira, Milena de Albuquerque, 1977-. “Synthesis of thin piezoelectric ALN films in view of sensors and telecom applications = Síntese de filmes finos de ALN piezoelétrico para aplicações em sensores e dispositivos de alta frequência .” 2014. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260817.

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MLA Handbook (7th Edition):

Moreira, Milena de Albuquerque, 1977-. “Synthesis of thin piezoelectric ALN films in view of sensors and telecom applications = Síntese de filmes finos de ALN piezoelétrico para aplicações em sensores e dispositivos de alta frequência .” 2014. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Moreira, Milena de Albuquerque 1. Synthesis of thin piezoelectric ALN films in view of sensors and telecom applications = Síntese de filmes finos de ALN piezoelétrico para aplicações em sensores e dispositivos de alta frequência . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2014. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260817.

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Council of Science Editors:

Moreira, Milena de Albuquerque 1. Synthesis of thin piezoelectric ALN films in view of sensors and telecom applications = Síntese de filmes finos de ALN piezoelétrico para aplicações em sensores e dispositivos de alta frequência . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2014. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260817

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Universidade Estadual de Campinas

7. Bertone, Osvaldo Hugo. Desenvolvimento de uma plataforma universal para aplicações em robôs móveis .

Degree: 2012, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Este trabalho visa o desenvolvimento de uma plataforma básica com o propósito de ser-vir de estrutura para aplicações em robôs móveis. Esta plataforma consta… (more)

Subjects/Keywords: Robôs móveis; Robos; Mecatrônica

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APA (6th Edition):

Bertone, O. H. (2012). Desenvolvimento de uma plataforma universal para aplicações em robôs móveis . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260985

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Bertone, Osvaldo Hugo. “Desenvolvimento de uma plataforma universal para aplicações em robôs móveis .” 2012. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260985.

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MLA Handbook (7th Edition):

Bertone, Osvaldo Hugo. “Desenvolvimento de uma plataforma universal para aplicações em robôs móveis .” 2012. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Bertone OH. Desenvolvimento de uma plataforma universal para aplicações em robôs móveis . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2012. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260985.

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Council of Science Editors:

Bertone OH. Desenvolvimento de uma plataforma universal para aplicações em robôs móveis . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2012. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260985

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Universidade Estadual de Campinas

8. Bertan, Hilton Henrique, 1979-. Estudo e modelamento computacional de emissores de elétrons por efeito de campo de formato hemi-elipsoidal utilizando o método de elementos finitos .

Degree: 2016, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Este trabalho apresenta os resultados das simulações numéricas para emissores de elétrons por efeito de campo utilizando um software baseado no Método de Elementos… (more)

Subjects/Keywords: Nanotecnologia; Emissão de campo; Simulação (Computadores)

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APA (6th Edition):

Bertan, Hilton Henrique, 1. (2016). Estudo e modelamento computacional de emissores de elétrons por efeito de campo de formato hemi-elipsoidal utilizando o método de elementos finitos . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/321182

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Bertan, Hilton Henrique, 1979-. “Estudo e modelamento computacional de emissores de elétrons por efeito de campo de formato hemi-elipsoidal utilizando o método de elementos finitos .” 2016. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/321182.

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MLA Handbook (7th Edition):

Bertan, Hilton Henrique, 1979-. “Estudo e modelamento computacional de emissores de elétrons por efeito de campo de formato hemi-elipsoidal utilizando o método de elementos finitos .” 2016. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Bertan, Hilton Henrique 1. Estudo e modelamento computacional de emissores de elétrons por efeito de campo de formato hemi-elipsoidal utilizando o método de elementos finitos . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2016. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/321182.

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Council of Science Editors:

Bertan, Hilton Henrique 1. Estudo e modelamento computacional de emissores de elétrons por efeito de campo de formato hemi-elipsoidal utilizando o método de elementos finitos . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2016. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/321182

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Universidade Estadual de Campinas

9. Roveri, Davi Sabbag, 1982-. Estudo e simulações computacionais das propriedades eletrostáticas associadas à forma hemisfério-sobre-um-poste de emissores de elétrons por efeito de campo, baseados no método de elementos finitos .

Degree: 2015, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Emissores de elétrons por efeito de campo têm sido exaustivamente estudados, tanto em suas as aplicações práticas como em seus aspectos geométricos. As aplicações… (more)

Subjects/Keywords: Método dos elementos finitos; Emissão de campo; Nanotubos de carbono

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APA (6th Edition):

Roveri, Davi Sabbag, 1. (2015). Estudo e simulações computacionais das propriedades eletrostáticas associadas à forma hemisfério-sobre-um-poste de emissores de elétrons por efeito de campo, baseados no método de elementos finitos . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260986

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Roveri, Davi Sabbag, 1982-. “Estudo e simulações computacionais das propriedades eletrostáticas associadas à forma hemisfério-sobre-um-poste de emissores de elétrons por efeito de campo, baseados no método de elementos finitos .” 2015. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260986.

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MLA Handbook (7th Edition):

Roveri, Davi Sabbag, 1982-. “Estudo e simulações computacionais das propriedades eletrostáticas associadas à forma hemisfério-sobre-um-poste de emissores de elétrons por efeito de campo, baseados no método de elementos finitos .” 2015. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Roveri, Davi Sabbag 1. Estudo e simulações computacionais das propriedades eletrostáticas associadas à forma hemisfério-sobre-um-poste de emissores de elétrons por efeito de campo, baseados no método de elementos finitos . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2015. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260986.

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Council of Science Editors:

Roveri, Davi Sabbag 1. Estudo e simulações computacionais das propriedades eletrostáticas associadas à forma hemisfério-sobre-um-poste de emissores de elétrons por efeito de campo, baseados no método de elementos finitos . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2015. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260986

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Universidade Estadual de Campinas

10. Menezes, Jacson Weber de. Fabricação e caracterização de estruturas periódicas utilizando superposição de padrões de interferência para aplicações em fotônica e plasmônica .

Degree: 2010, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Esta tese tem como objetivo demonstrar a viabilidade e o potencial da técnica de superposição de padrões de interferência para fabricação de estruturas periódicas… (more)

Subjects/Keywords: Litografia; Interferometria; Nanotecnologia; Detectores

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APA (6th Edition):

Menezes, J. W. d. (2010). Fabricação e caracterização de estruturas periódicas utilizando superposição de padrões de interferência para aplicações em fotônica e plasmônica . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260707

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Menezes, Jacson Weber de. “Fabricação e caracterização de estruturas periódicas utilizando superposição de padrões de interferência para aplicações em fotônica e plasmônica .” 2010. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260707.

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MLA Handbook (7th Edition):

Menezes, Jacson Weber de. “Fabricação e caracterização de estruturas periódicas utilizando superposição de padrões de interferência para aplicações em fotônica e plasmônica .” 2010. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Menezes JWd. Fabricação e caracterização de estruturas periódicas utilizando superposição de padrões de interferência para aplicações em fotônica e plasmônica . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2010. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260707.

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Council of Science Editors:

Menezes JWd. Fabricação e caracterização de estruturas periódicas utilizando superposição de padrões de interferência para aplicações em fotônica e plasmônica . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2010. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260707

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Universidade Estadual de Campinas

11. Alves, Marco Antonio Robert, 1964-. Estudo dos processos de fabricação e comportamento termodinamico de estruturas MOS e bipolar .

Degree: 1992, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Este trabalho transistores visa um estudo do comportamento dos MOS e bipolar em diferentes condições de recozimento térmico do alumínio. Estudaremos resistência de contato… (more)

Subjects/Keywords: Microeletrônica; Engenharia elétrica

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Alves, Marco Antonio Robert, 1. (1992). Estudo dos processos de fabricação e comportamento termodinamico de estruturas MOS e bipolar . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261360

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Alves, Marco Antonio Robert, 1964-. “Estudo dos processos de fabricação e comportamento termodinamico de estruturas MOS e bipolar .” 1992. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261360.

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MLA Handbook (7th Edition):

Alves, Marco Antonio Robert, 1964-. “Estudo dos processos de fabricação e comportamento termodinamico de estruturas MOS e bipolar .” 1992. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Alves, Marco Antonio Robert 1. Estudo dos processos de fabricação e comportamento termodinamico de estruturas MOS e bipolar . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1992. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261360.

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Council of Science Editors:

Alves, Marco Antonio Robert 1. Estudo dos processos de fabricação e comportamento termodinamico de estruturas MOS e bipolar . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1992. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261360

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Universidade Estadual de Campinas

12. Takeuti, Douglas de Freitas. Estudo do comportamento termodinamico de dispositivos MOS submetidos a radiações ionizantes .

Degree: 1992, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Estudamos o comportamento de capacitores Metal-Óxido-Semicondutor (MOS, aluminio-Si02-Si) após irradiação por raios-X (CU K-a ) e seu posterior tratamento térmico na faixa de temperatura… (more)

Subjects/Keywords: Microeletrônica; Engenharia elétrica

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APA (6th Edition):

Takeuti, D. d. F. (1992). Estudo do comportamento termodinamico de dispositivos MOS submetidos a radiações ionizantes . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261358

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Takeuti, Douglas de Freitas. “Estudo do comportamento termodinamico de dispositivos MOS submetidos a radiações ionizantes .” 1992. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261358.

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MLA Handbook (7th Edition):

Takeuti, Douglas de Freitas. “Estudo do comportamento termodinamico de dispositivos MOS submetidos a radiações ionizantes .” 1992. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Takeuti DdF. Estudo do comportamento termodinamico de dispositivos MOS submetidos a radiações ionizantes . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1992. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261358.

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Council of Science Editors:

Takeuti DdF. Estudo do comportamento termodinamico de dispositivos MOS submetidos a radiações ionizantes . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1992. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261358

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Universidade Estadual de Campinas

13. Silva, Nidinalva Tamacia da. Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p .

Degree: 1997, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Neste trabalho foi realizada a deposição fotoeletroquímica seletiva de filmes finos de cobre a partir de uma solução de sulfato de cobre II sobre… (more)

Subjects/Keywords: Semicondutores - Gravura; Eletroquímica; Eletrodeposição; Cobre

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APA (6th Edition):

Silva, N. T. d. (1997). Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258910

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Silva, Nidinalva Tamacia da. “Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p .” 1997. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258910.

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MLA Handbook (7th Edition):

Silva, Nidinalva Tamacia da. “Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p .” 1997. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Silva NTd. Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1997. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258910.

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Council of Science Editors:

Silva NTd. Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1997. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258910

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Universidade Estadual de Campinas

14. Balachova, Olga Viatcheslavovna. Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF .

Degree: 1998, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Os filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) foram fabricados através da técnica de deposição química a partir da fase de vapor assistida por… (more)

Subjects/Keywords: Carbono; Filmes finos; Plasma (Gases ionizados)

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APA (6th Edition):

Balachova, O. V. (1998). Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261739

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Balachova, Olga Viatcheslavovna. “Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF .” 1998. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261739.

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MLA Handbook (7th Edition):

Balachova, Olga Viatcheslavovna. “Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF .” 1998. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Balachova OV. Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1998. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261739.

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Balachova OV. Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1998. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261739

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Universidade Estadual de Campinas

15. Amorim, Hermes Antonio de. Caracterização de filmes finos de carbono depositados por PECVD .

Degree: 1995, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Neste trabalho é apresentado um estudo sobre a obtenção de filmes finos de carbono por deposição química a partir da fase de vapor assistida… (more)

Subjects/Keywords: Filmes finos; Filmes finos - Propriedades óticas; Filmes finos - Propriedades elétricas

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APA (6th Edition):

Amorim, H. A. d. (1995). Caracterização de filmes finos de carbono depositados por PECVD . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261359

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Amorim, Hermes Antonio de. “Caracterização de filmes finos de carbono depositados por PECVD .” 1995. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261359.

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MLA Handbook (7th Edition):

Amorim, Hermes Antonio de. “Caracterização de filmes finos de carbono depositados por PECVD .” 1995. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Amorim HAd. Caracterização de filmes finos de carbono depositados por PECVD . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1995. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261359.

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Amorim HAd. Caracterização de filmes finos de carbono depositados por PECVD . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1995. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261359

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Universidade Estadual de Campinas

16. Cabreira, Clovis Magri. Desenvolvimento de um filtro passa-faixas empregando tecnologia de ondas acusticas superficiais .

Degree: 1997, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: o objetivo principal deste trabalho foi apresentar o desenvolvimento de um filtro passa-faixas em 70 MHz, utilizando tecnologia de Ondas Acústicas Superficiais (OAS). Alguns… (more)

Subjects/Keywords: Filtros acusticos; Ondas acústicas superficiais

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APA (6th Edition):

Cabreira, C. M. (1997). Desenvolvimento de um filtro passa-faixas empregando tecnologia de ondas acusticas superficiais . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258909

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Cabreira, Clovis Magri. “Desenvolvimento de um filtro passa-faixas empregando tecnologia de ondas acusticas superficiais .” 1997. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258909.

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Cabreira, Clovis Magri. “Desenvolvimento de um filtro passa-faixas empregando tecnologia de ondas acusticas superficiais .” 1997. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Cabreira CM. Desenvolvimento de um filtro passa-faixas empregando tecnologia de ondas acusticas superficiais . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1997. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258909.

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Cabreira CM. Desenvolvimento de um filtro passa-faixas empregando tecnologia de ondas acusticas superficiais . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1997. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258909

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Universidade Estadual de Campinas

17. Lins, Mauro Guaracy. Estudos dos processos de corrosão por plasma atraves da luminescencia dos produtos reagentes .

Degree: 1994, Universidade Estadual de Campinas

Resumo: Não informado; Abstract: Not informed. Advisors/Committee Members: Braga, Edmundo da Silva, 1945- (advisor).

Subjects/Keywords: Luminescência; Semicondutores

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APA (6th Edition):

Lins, M. G. (1994). Estudos dos processos de corrosão por plasma atraves da luminescencia dos produtos reagentes . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261357

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Lins, Mauro Guaracy. “Estudos dos processos de corrosão por plasma atraves da luminescencia dos produtos reagentes .” 1994. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261357.

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MLA Handbook (7th Edition):

Lins, Mauro Guaracy. “Estudos dos processos de corrosão por plasma atraves da luminescencia dos produtos reagentes .” 1994. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Lins MG. Estudos dos processos de corrosão por plasma atraves da luminescencia dos produtos reagentes . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1994. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261357.

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Council of Science Editors:

Lins MG. Estudos dos processos de corrosão por plasma atraves da luminescencia dos produtos reagentes . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1994. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261357

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Universidade Estadual de Campinas

18. Pires, Rodrigo Porto. Estudo do comportamento eletrico de dispositivos semicondutores fabricados com filmes finos de a-C:H e a-C:H:N obtidos por RF-PECVD .

Degree: 2003, Universidade Estadual de Campinas

Subjects/Keywords: Filmes finos; Carbono; Diodos; Nitrogênio; Heteroestruturas

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APA (6th Edition):

Pires, R. P. (2003). Estudo do comportamento eletrico de dispositivos semicondutores fabricados com filmes finos de a-C:H e a-C:H:N obtidos por RF-PECVD . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261773

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Pires, Rodrigo Porto. “Estudo do comportamento eletrico de dispositivos semicondutores fabricados com filmes finos de a-C:H e a-C:H:N obtidos por RF-PECVD .” 2003. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261773.

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MLA Handbook (7th Edition):

Pires, Rodrigo Porto. “Estudo do comportamento eletrico de dispositivos semicondutores fabricados com filmes finos de a-C:H e a-C:H:N obtidos por RF-PECVD .” 2003. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Pires RP. Estudo do comportamento eletrico de dispositivos semicondutores fabricados com filmes finos de a-C:H e a-C:H:N obtidos por RF-PECVD . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2003. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261773.

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Council of Science Editors:

Pires RP. Estudo do comportamento eletrico de dispositivos semicondutores fabricados com filmes finos de a-C:H e a-C:H:N obtidos por RF-PECVD . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2003. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261773

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Universidade Estadual de Campinas

19. Costa Filho, Cicero Ferreira Fernandes. Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo .

Degree: 1985, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Para fabricaçao de circuitos e dispositivos VLSI Very Laige Scale of Integration (Muita Larga Escala de Integraçao), a tecnologia de corrosão de material por… (more)

Subjects/Keywords: Corrosão; Química de plasma; Íons

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APA (6th Edition):

Costa Filho, C. F. F. (1985). Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258908

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Costa Filho, Cicero Ferreira Fernandes. “Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo .” 1985. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258908.

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MLA Handbook (7th Edition):

Costa Filho, Cicero Ferreira Fernandes. “Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo .” 1985. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Costa Filho CFF. Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1985. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258908.

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Costa Filho CFF. Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1985. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258908

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Universidade Estadual de Campinas

20. Tatsch, Peter Jürgen, 1949-. Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar .

Degree: 1988, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Neste trabalho é apresentado um estudo da viabilidade da oxidação do silício por plasma, em reator planar, como prcesso de baixa temperatura para a… (more)

Subjects/Keywords: Circuitos integrados; Silício - Oxidação

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APA (6th Edition):

Tatsch, Peter Jürgen, 1. (1988). Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260389

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Tatsch, Peter Jürgen, 1949-. “Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar .” 1988. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260389.

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MLA Handbook (7th Edition):

Tatsch, Peter Jürgen, 1949-. “Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar .” 1988. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Tatsch, Peter Jürgen 1. Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1988. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260389.

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Tatsch, Peter Jürgen 1. Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1988. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260389

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Universidade Estadual de Campinas

21. Alves, Marco Antonio Robert, 1964-. Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF .

Degree: 1996, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) foram obtidos através .da técnica de deposição química a partir da fase de vapor assistida por plasma… (more)

Subjects/Keywords: Carbono; Filmes finos; Plasma (Gases ionizados); Diodos

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Alves, Marco Antonio Robert, 1. (1996). Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260705

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Alves, Marco Antonio Robert, 1964-. “Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF .” 1996. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260705.

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MLA Handbook (7th Edition):

Alves, Marco Antonio Robert, 1964-. “Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF .” 1996. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Alves, Marco Antonio Robert 1. Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1996. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260705.

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Alves, Marco Antonio Robert 1. Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1996. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260705

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Universidade Estadual de Campinas

22. Balachova, Olga Viatcheslavovna. Contribuição ao estudo das propriedades dieletricas e mecanicas dos filmes finos de a-C:H, obtidos por PECVD .

Degree: 2001, Universidade Estadual de Campinas

Subjects/Keywords: Semicondutores amorfos; Filmes finos de diamantes - Propriedades elétricas; Membranas (Tecnologia); Medidas elétricas

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Balachova, O. V. (2001). Contribuição ao estudo das propriedades dieletricas e mecanicas dos filmes finos de a-C:H, obtidos por PECVD . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260247

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Balachova, Olga Viatcheslavovna. “Contribuição ao estudo das propriedades dieletricas e mecanicas dos filmes finos de a-C:H, obtidos por PECVD .” 2001. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260247.

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MLA Handbook (7th Edition):

Balachova, Olga Viatcheslavovna. “Contribuição ao estudo das propriedades dieletricas e mecanicas dos filmes finos de a-C:H, obtidos por PECVD .” 2001. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Balachova OV. Contribuição ao estudo das propriedades dieletricas e mecanicas dos filmes finos de a-C:H, obtidos por PECVD . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2001. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260247.

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Council of Science Editors:

Balachova OV. Contribuição ao estudo das propriedades dieletricas e mecanicas dos filmes finos de a-C:H, obtidos por PECVD . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2001. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260247

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Universidade Estadual de Campinas

23. Miyao, Yamato. Desenvolvimento de um gerador de plasma de microondas para uso em CVD e sua aplicação na sintese de filmes de carbono amorfo hidrogenado .

Degree: 2004, Universidade Estadual de Campinas

Subjects/Keywords: Deposição química de vapor; Filmes finos de diamantes; Plasma de microondas

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Miyao, Y. (2004). Desenvolvimento de um gerador de plasma de microondas para uso em CVD e sua aplicação na sintese de filmes de carbono amorfo hidrogenado . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260248

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Miyao, Yamato. “Desenvolvimento de um gerador de plasma de microondas para uso em CVD e sua aplicação na sintese de filmes de carbono amorfo hidrogenado .” 2004. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260248.

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Miyao, Yamato. “Desenvolvimento de um gerador de plasma de microondas para uso em CVD e sua aplicação na sintese de filmes de carbono amorfo hidrogenado .” 2004. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Miyao Y. Desenvolvimento de um gerador de plasma de microondas para uso em CVD e sua aplicação na sintese de filmes de carbono amorfo hidrogenado . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2004. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260248.

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Miyao Y. Desenvolvimento de um gerador de plasma de microondas para uso em CVD e sua aplicação na sintese de filmes de carbono amorfo hidrogenado . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2004. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260248

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Universidade Estadual de Campinas

24. Silva, Nelmo Cyriaco da. Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica .

Degree: 1999, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: A tecnologia descrita neste trabalho foi desenvolvida para obtenção de feixe de íons de Érbio usando um equipamento implantador de íons tipicamente voltado à… (more)

Subjects/Keywords: Implantação iônica; Plasma (Gases ionizados); Dispositivos optoeletrônicos; Microeletrônica

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APA (6th Edition):

Silva, N. C. d. (1999). Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259499

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Silva, Nelmo Cyriaco da. “Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica .” 1999. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259499.

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MLA Handbook (7th Edition):

Silva, Nelmo Cyriaco da. “Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica .” 1999. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Silva NCd. Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1999. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259499.

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Silva NCd. Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1999. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259499

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Universidade Estadual de Campinas

25. Porto, Lesnir Ferreira. Fabricação e caracterização eletrica de ponteiras de emissão de campo recobertas com filme fino DLC (Diamond Like Carbon) .

Degree: 2005, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Este trabalho de mestrado teve como objetivos a fabricação e o estudo do comportamento elétrico das ponteiras de silício de emissão de campo a… (more)

Subjects/Keywords: Microeletrônica; Elétrons - Emissão; Silício; Filmes finos de diamantes; Medidas elétricas

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APA (6th Edition):

Porto, L. F. (2005). Fabricação e caracterização eletrica de ponteiras de emissão de campo recobertas com filme fino DLC (Diamond Like Carbon) . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258906

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Porto, Lesnir Ferreira. “Fabricação e caracterização eletrica de ponteiras de emissão de campo recobertas com filme fino DLC (Diamond Like Carbon) .” 2005. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258906.

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Porto, Lesnir Ferreira. “Fabricação e caracterização eletrica de ponteiras de emissão de campo recobertas com filme fino DLC (Diamond Like Carbon) .” 2005. Web. 10 Dec 2019.

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Porto LF. Fabricação e caracterização eletrica de ponteiras de emissão de campo recobertas com filme fino DLC (Diamond Like Carbon) . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2005. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258906.

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Porto LF. Fabricação e caracterização eletrica de ponteiras de emissão de campo recobertas com filme fino DLC (Diamond Like Carbon) . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2005. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258906

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Universidade Estadual de Campinas

26. Li, Bin Bin. Uma contribuição ao estudo das propriedades eletricas das ceramicas semicondutoras MnNiCuFeO submetidas a implantação de ions .

Degree: 1995, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Foram fabricadas amostras de cerâmicas semicondutoras MnNiCuFeO e estudadas as suas propriedades elétricas antes e depois da implantação de íons do tipo B, P,… (more)

Subjects/Keywords: Cerâmica; Semicondutores

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APA (6th Edition):

Li, B. B. (1995). Uma contribuição ao estudo das propriedades eletricas das ceramicas semicondutoras MnNiCuFeO submetidas a implantação de ions . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259326

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Li, Bin Bin. “Uma contribuição ao estudo das propriedades eletricas das ceramicas semicondutoras MnNiCuFeO submetidas a implantação de ions .” 1995. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259326.

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Li, Bin Bin. “Uma contribuição ao estudo das propriedades eletricas das ceramicas semicondutoras MnNiCuFeO submetidas a implantação de ions .” 1995. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Li BB. Uma contribuição ao estudo das propriedades eletricas das ceramicas semicondutoras MnNiCuFeO submetidas a implantação de ions . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1995. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259326.

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Li BB. Uma contribuição ao estudo das propriedades eletricas das ceramicas semicondutoras MnNiCuFeO submetidas a implantação de ions . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1995. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259326

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Universidade Estadual de Campinas

27. Faria, Pedro Henrique Librelon de. Contribuição ao estudo do processo de fabricação de microponteiras de silicio ultra-finas .

Degree: 2007, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Neste trabalho realizamos uma contribuição ao estudo do processo de fabricação de microponteiras de Si ultra-finas, utilizando o processo de afinamento por oxidação térmica.… (more)

Subjects/Keywords: Silício - Oxidação; Elétrons - Emissão; Engenharia elétrica - Materiais; Semicondutores

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Faria, P. H. L. d. (2007). Contribuição ao estudo do processo de fabricação de microponteiras de silicio ultra-finas . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259567

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Faria, Pedro Henrique Librelon de. “Contribuição ao estudo do processo de fabricação de microponteiras de silicio ultra-finas .” 2007. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259567.

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Faria, Pedro Henrique Librelon de. “Contribuição ao estudo do processo de fabricação de microponteiras de silicio ultra-finas .” 2007. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Faria PHLd. Contribuição ao estudo do processo de fabricação de microponteiras de silicio ultra-finas . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2007. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259567.

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Faria PHLd. Contribuição ao estudo do processo de fabricação de microponteiras de silicio ultra-finas . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2007. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259567

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Universidade Estadual de Campinas

28. Tirolli, Marcelo Nogueira. Modelamento computacional de ponteiras de emissão de campo .

Degree: 2007, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Este trabalho tem como objetivo o estudo do comportamento elétrico de uma ponteira de emissão de campo, modelada na forma de um hemisfério sobre… (more)

Subjects/Keywords: Microeletrônica; Elétrons - Emissão; Campos elétricos; Medidas elétricas; Simulação (Computadores)

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APA (6th Edition):

Tirolli, M. N. (2007). Modelamento computacional de ponteiras de emissão de campo . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259568

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Tirolli, Marcelo Nogueira. “Modelamento computacional de ponteiras de emissão de campo .” 2007. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259568.

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MLA Handbook (7th Edition):

Tirolli, Marcelo Nogueira. “Modelamento computacional de ponteiras de emissão de campo .” 2007. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Tirolli MN. Modelamento computacional de ponteiras de emissão de campo . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2007. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259568.

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Tirolli MN. Modelamento computacional de ponteiras de emissão de campo . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2007. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259568

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Universidade Estadual de Campinas

29. Mologni, Juliano Fujioka. Estudo e implementação de um processo de fabricação de microponteiras de Si utilizando plasma de hexafluoreto de enxofre e oxigenio .

Degree: 2004, Universidade Estadual de Campinas

 Resumo: Desenvolvemos e caracterizamos um processo de fabricação de microponteiras de silício utilizando plasma de radiofreqüência (RF). Foram estabelecidos processos de corrosão iônica reativa (RIE)… (more)

Subjects/Keywords: Cristais de silício - Propriedades elétricas; Plasma (Gases ionizados); Gravura por plasma

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APA (6th Edition):

Mologni, J. F. (2004). Estudo e implementação de um processo de fabricação de microponteiras de Si utilizando plasma de hexafluoreto de enxofre e oxigenio . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261127

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Mologni, Juliano Fujioka. “Estudo e implementação de um processo de fabricação de microponteiras de Si utilizando plasma de hexafluoreto de enxofre e oxigenio .” 2004. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261127.

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MLA Handbook (7th Edition):

Mologni, Juliano Fujioka. “Estudo e implementação de um processo de fabricação de microponteiras de Si utilizando plasma de hexafluoreto de enxofre e oxigenio .” 2004. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Mologni JF. Estudo e implementação de um processo de fabricação de microponteiras de Si utilizando plasma de hexafluoreto de enxofre e oxigenio . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2004. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261127.

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Mologni JF. Estudo e implementação de um processo de fabricação de microponteiras de Si utilizando plasma de hexafluoreto de enxofre e oxigenio . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 2004. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261127

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Universidade Estadual de Campinas

30. Leão, Felippe Carneiro. Estudo e implementação de um teste de aceleração termica para a melhoria da qualidade e confiabilidade de componentes e sistemas .

Degree: 1993, Universidade Estadual de Campinas

Resumo: Não informado; Abstract: Not informed. Advisors/Committee Members: Tatsch, Peter Jürgen, 1949- (advisor), Barbosa, Luis Carlos (committee member), Braga, Edmundo da Silva (committee member), Moraes, Vilmar Bueno de (committee member).

Subjects/Keywords: Confiabilidade (Engenharia) - Métodos estatísticos; Controle de qualidade; Aparelhos e materiais eletronicos - Abastecimento de energia - Testes

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APA (6th Edition):

Leão, F. C. (1993). Estudo e implementação de um teste de aceleração termica para a melhoria da qualidade e confiabilidade de componentes e sistemas . (Thesis). Universidade Estadual de Campinas. Retrieved from http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261577

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Chicago Manual of Style (16th Edition):

Leão, Felippe Carneiro. “Estudo e implementação de um teste de aceleração termica para a melhoria da qualidade e confiabilidade de componentes e sistemas .” 1993. Thesis, Universidade Estadual de Campinas. Accessed December 10, 2019. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261577.

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Leão, Felippe Carneiro. “Estudo e implementação de um teste de aceleração termica para a melhoria da qualidade e confiabilidade de componentes e sistemas .” 1993. Web. 10 Dec 2019.

Vancouver:

Leão FC. Estudo e implementação de um teste de aceleração termica para a melhoria da qualidade e confiabilidade de componentes e sistemas . [Internet] [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1993. [cited 2019 Dec 10]. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261577.

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Council of Science Editors:

Leão FC. Estudo e implementação de um teste de aceleração termica para a melhoria da qualidade e confiabilidade de componentes e sistemas . [Thesis]. Universidade Estadual de Campinas; 1993. Available from: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261577

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